Operační zesilovače v automatizační technice

| Kategorie: Kniha  | Tento dokument chci!

Kniha obsahuje základní informace o operačních zesilovačích. Seznamuje čtenáře s vlastnostmi a s hlavními druhy operačních zesilovačů, s technikou jejich měření a zapojení ve zpětnovazebních operačních sítích i s jejich použitím ve vyhodnocovacích, měřicích a regulačních obvodech v automatizační technice. Kniha je určena širokému okruhu čtenářů se středním vzděláním, kteří se zabývají návrhem, měřením a použitím obvodů, přístrojů a zařízení s operačními zesilovači v automatizační, měřicí a výpočetní technice.

Vydal: Státní nakladatelství technické literatury Autor: Karel Kabeš

Strana 35 z 261

Vámi hledaný text obsahuje tato stránku dokumentu který není autorem určen k veřejnému šíření.

Jak získat tento dokument?






Poznámky redaktora
pouzdře DIL čtrnácti nebo osmi vývody (obr. 16 [30], [58]. 17). Atomy mají energii až 150 kVe mohou být koncentrovány určité hloubky krysta­ lu. 16.podle masek paprskem energie provádí velmi jemné dotování jednotlivými atomy příměsových prvků. vytvoření bipolární struktury standardní difúzí se dvojnásobnou iontovou implantací vytvoří implantovaná vrstva kanálu hradla Pro zajištění malého zbytkového vstupního napětí monolitických operačních zesilovačů propracována technologie nastavení souměrnosti vstupního obvodu aktivním vyvážením tenkovrstvých rezistorů laserovým paprskem. Základní polovodičová struktura BIFET, složená vertikálního tranzistoru NPN unipolárního tranzistoru JFET kanálem obr. Polovodičová struktura IFE T B, elektrody bipolárního tranzistoru NPN, S, elektrody tranzistoru JFE implantovaná vrstva kanálu implantovaná vrstva hradla N (N+, oblasti vysokou koncentrací) Monolitická integrovaná technologie pokrývá největší objem výroby operačních zesilovačů uplatňuje stále větším roz­ sahu. Tím lze velmi přesně dodržet požadovanou hustotu dotované vrstvy koncentraci dotování velkou reprodukovatelnost implantovaných vrstev. Iontová implantace umožňuje zvětšit proudové zesílení, zvýšit tranzitní frekvenci bipolárních tranzistorů čipu (zvláště laterálních tranzistorů PNP) vytvořit integrované rezistory s větším odporem přesností. Většina výrobců dodává integrované operační zesilovače v typizovaných pouzdrech osmi vývody nebo T 100 deseti vývody, popř. Obr. Její hlavní předností je, dovoluje vytvářet křemíkové destičce současně bipolárními tranzistory i tranzistory řízené elektrickým polem (JFET, MOSFET). 3. Kombi­ nace bipolárních unipolárních tranzistorů jediném čipu zá­ kladní charakteristikou nové generace monolitických operačních zesilovačů, někdy označovaných BIFET nebo BIMOS