Planární prenosové vedení na polovodicovém substrátu

| Kategorie: Diplomové, bakalářské práce  | Tento dokument chci!

Cílem této práce bylo seznámit se s typy planárních vedení a diskutovat jejichvlastnosti. Následně pak vytvoření reálných modelů vybraných typů vedenív programu COMSOL Multiphysics a simulací ověřit jejich vlastnosti. Druhá částpráce se zabývá modelováním polovodičového substrátu, který nahrazuje dielektrickýsubstrát použitý u vedení v první části práce. Závěrečná část práce se zabýváověřením dosažených výsledků výpočtem ve specializovaném programu TiberCAD.

Vydal: FEKT VUT Brno Autor: Pavel Chára

Strana 42 z 71

Vámi hledaný text obsahuje tato stránku dokumentu který není autorem určen k veřejnému šíření.

Jak získat tento dokument?






Poznámky redaktora
Hodnoty Ndi byly zvoleny jako maximální možné ohledem omezení výpočetních možnostech programů COMSOL TiberCAD. Hodnota horní méně dotované vrstvy byla stanovena Ndi 2,1⋅107 cm-3 , tato hodnota byla původně stanovena jako hodnota intrinsické koncentrace GaAs (2,1⋅106 cm-3 ).37 8 Model planárního přenosového vedení na polovodičovém substrátu 8. napětí Nd 1,0⋅1022 1/m3 Zvolená špičková koncentrace donorů Ndi 2,1⋅1013 1/m3 Zvolená minimální koncentrace donorů χGaAs 4,05⋅10 -19 J elektronová afinita Eg 1,42⋅10 -19 J zakázaný pás GaAs ni 2,1⋅10 12 1/m 3 intrinsická konstanta [10] Rozměr polovodičové struktury, která bude použita při dalších simulacích planárních vedení polovodičovém substrátu, souhlasí rozměry získanými v předchozích kapitolách, konkrétně 0,1 mm. průběhu simulací bylo ale zjištěno, tato hodnota pohybuje hranici použitelnosti a nelze zároveň úspěšně realizovat simulace modelovaného polovodiče. Materiál, kterého tvořen modelovaný polovodič gallium arsenid GaAs, je složen dvou vrstev dotovaných pouze elektrony, tabulce Tab. Tab.1 Model polovodičového substrátu prostředí COMSOL V následujícím textu bude popsána tvorba modelu polovodičového substrátu, který bude dále využit při simulacích planárních vedení. 41) zřejmé, pro nižší ztráty bylo vhodné volit hodnotu dotací vyšší než 1⋅1017 cm-3 . Model byl vytvořen 2D prostředí programu COMSOL Multiphysics použitím modulů Electrostatics a Transport Diluted Species. . Vodivost spodní vrstvy byla experimentálně určena pomocí vzorce (59), kterého byly místo dosazovány příslušné hodnoty koncentrace donorů Nd rozsahu 1⋅107 cm-3 až 1⋅1018 cm-3 . těchto případech ale již polovodič vykazuje znaky degenerovaného polovodiče. Konstanty pro modelování gallium arsenidového polovodiče q 1,602⋅10-19 C elementární náboj T 300 počáteční teplota k 1,38⋅10-23 J/K Boltzmannova konstanta εr 12,93 relativní permitivita GaAs µn 300 0,85 m2 /(V⋅s) pohyblivost elektronů GaAs c 38,7 s 3 ⋅A/(m 2 ⋅kg) převrácená hodnota teplot. Vysoká hodnota 1⋅1016 cm-3 ve spodní silně dotované vrstvě byla stanovena důvodu požadované vyšší vodivosti ohledem výsledné ztráty vedení. jsou uvedeny nejdůležitější konstanty potřebné jeho realizaci. Ze závislosti vodivosti ztrát hodnotě dotací elektronů mikropáskovém vedení polovodičovém substrátu (Obr