Receptář pro elektrotechnika

| Kategorie: Kniha  | Tento dokument chci!

Receptář obsahuje podrobné předpisy pro přípravu různých vyzkoušených a v provozu osvědčených prostředků na lepení, tmelení, čištění kovů, skla, dřeva a jiných materiálů, jejich povrchovou úpravu a pájení. Jsou zde popsány i speciální inkousty, různé mazací prostředky, nátěrové hmoty, impregnační prostředky, antistatické látky, chladicí a nemrznoucí směsi a problematika výroby plošných spojů. Receptář je určen technikům, mistrům, dělníkům, zlepšovatelům a širokému okruhu zájemců o nejrůznější recepty, návody a výrobky.

Vydal: Státní nakladatelství technické literatury Autor: Jan Škeřík

Strana 506 z 535

Vámi hledaný text obsahuje tato stránku dokumentu který není autorem určen k veřejnému šíření.

Jak získat tento dokument?






Poznámky redaktora
Dále jsou tabulce uvedeny nejpoužívanější plyny jejich nejčastější příměsi.oxid uhličitý oxid uhelnatý oxid siřičitý metan {pro uvedené plyny nejvýhodnější použít koncentrovanou kyselinu síro­ vou nebo chlorid vápenatý, pro zvláště důkladné sušení nejlépe použít kysličník fosforečný promísený skelnou vatou) chlorovodík chlór (doporučuje sušit pouze koncentrovanou kyselinou sírovou nebo chloridem vápenatým) ozón sirovodík (pouhým chloridem vápenatým) amoniak (směsí hydroxidu draselného kysličníkem vápenatým) bromovodík (bromidem vápenatým) 'odovodík (jodidem vápenatým) kysličníky dusíku (dusičnanem vápenatým) etylén (pouze koncentrovanou kyselinou sírovou stálého chlazení). oxid fosforečný 509 . měděné hobliny, rozžhavené na teplotu 700 nebo alkalický roztok pyrogalolu nobo hydro- siřičitanu sodného 2. čištěný a sušený plyn Možné příměsi Přehled čisticích a sušicích látek dusík kyslík, vodní pára, oxid uhličiný, inertní plyny 1. pevný hydroxid draselný 3. koncentrovaná kyselina sírová 5. třetím sloupci jsou uvedeny čisticí sušicí látky, pořadí, v jakém nutné pro tento pracovní postup použít. Protože většina plynů tlakových láhvích nemá dostatečnou čistotu, přidávají většinou sušidlúm čisticí látky. chlorid vápenatý 4