Kniha podává zhuštěnou formou celou látku silnoproudé elektrotechniky, a to jak z hlediska vysvětlení principů funkce a vlastností silnoproudých strojů, přístrojů a zařízení, tak i z hlediska jejich provozu, výpočtu a návrhu. V knize jsou probrána nejen zařízení klasická, ale i výhledově perspektivní, např. výkonová elektronika, supravodiče, jaderné elektrárny apod.Kniha je určena nejširšímu okruhu inženýrů a techniků, zajímajících se o obor silnoproudé elektrotechniky nebo pracujících v tomto oboru.
Při nižších teplotách, jako např. Výstupní potenciály čistých kovových povrchů některých vysoko-
tavitelných kovů, vhodných pro elektrody TEM měničů
Kov Struktura [V| [K]
W
polykrystalická 4,6
2 600
monokrystal 5,0
Mo polykrystalická 4,5 300
Ta monokrystal 4,3 400
Re
polykrystalická 4,8
2 500
monokrystal 5,4
Jiný důležitý proces probíhající povrchu elektrod vysokou teplotou, např. 204.
Se zvyšující teplotou elektrody (např. emitoru) zmenšuje hustota adsorbovaných atomů
cesia, povrch atomy cesia neúplně pokrytý jeho výstupní potenciál zvětšuje (obr.
3,66.ÁeícmJ Nalézá-li prostředí cesiové páry kovová elektroda, absorbují jejím povrchu
cesiové atomy. na
emiteru TEM měniče, tzv. povrchová ionizace atomu cesia, které při svých nahodilých
pohybech dopadají elektrodu. Tyto hodnoty jsou pro některé kovy
uvedeny tab. Hustota iontového proudu, vznikajícího tímto procesem,
vyjádřená rovnicí podle Sahy Langmuira . 104
_ epcs{2TzmcBk& ca)~1/2 _________________ ]/@cs_______ (16-25)
1 exp
e(Ui e)
k E
e, -s—
1+2„ p[11<09ín ]
650 600 500 400 350
871
.
Tah. 204. teplota kolektoru, jsou adsorbovány něko-
likaatomové vrstvy, jež mění původní výstupní potenciál kovového povrchu hodnotu,
která prakticky rovná výstupnímu potenciálu kapalného cesia leží oboru 1,5 eV. 894)
až hodnoty čistého kovového povrchu elektrody
