Elektřina a magnetismus i. UK

| Kategorie: Skripta  | Tento dokument chci!

Na závěr děkuji recensentu skripta B. Sedlákovi za pozorné pročtení skripta a za cenné připomínky, které pomohly zlepšit text. Můj dík patří rovněž pracovnicím katedry M. Teňákové, J. Beranově a L. Kadeřábkové za velmi přesné a pečlivé zpracování rukopisu a nakreslení obrázků.

Vydal: Státní pedagogické nakladatelství Praha Autor: Jaromír Brož

Strana 211 z 229

Vámi hledaný text obsahuje tato stránku dokumentu který není autorem určen k veřejnému šíření.

Jak získat tento dokument?






Poznámky redaktora
3,12).3. 2. ,13a jde diodu přímo žhavenou katodou, obr. Rovnovážný stav pak charak- terisován tím, počet emitovaných elektronů právě rovná počtu elektronů vracejících důsledku prostoro­ vého náboje zpět katodu. Elektronky« Dioda. Žhavení přímé nebo nepřímé. Vlivem emise elektronů katoda nabijí kladně, takže některá elektrony vracejí zpět na katodu. Ne­ přímo žhavenou katodu tvoří vrstva kysličníku barya, stroncia nebo thoria, která vlastního žhaveného vlákna elektric­ ky isolovaná.3. Katoda která tvar vlákna a je obklopena válcovou anodou žhavena průchodem proudu baterie nebo ze žhavícího transformátoru (obr. Schematické znázornění diody její zapojení obvodu ukazuje obr. Velmi malý počet elektronů emitovaných katody, Obr.2) výstupu elektronů katody.4. Elektrony vyletující žhavé katody se nad jejím povrchem hromadí vytvářejí kolem prostorový náboj, který zabraňuje výstupu dalších elektronů katody. 3,13b o'diodu katodou žhevenou nepřímo. Při dostatečně vysoké teplotě katody dochází vlivem termoemise (viz 81. 2,5), což vede k tomu, nepřímo žhavených katod dosa­ huje vyšší emise elektronů při nižších teplo­ tách. 3,13; v obr. Nejjednodušší elektronkou dioda (Fle­ ming, 1904), skládající dvou elektrod, anody žhavé katody, umístě­ ních baňce, níž vzduch vyčerpán vysoké vakuum (na tlak řádu 10~6 torr). 3,12 b) Obr. 3,13 213 . Ifyto kysličníkové vrstvy mají vesměs malou hodnotu emisní konstanty Ri- chardsonově-Dushmanově vztahu (2,113) i malou výstupní práci (viz tab.4