Na závěr děkuji recensentu skripta B. Sedlákovi za pozorné pročtení skripta a za cenné připomínky, které pomohly zlepšit text. Můj dík patří rovněž pracovnicím katedry M. Teňákové, J. Beranově a L. Kadeřábkové za velmi přesné a pečlivé zpracování rukopisu a nakreslení obrázků.
3,5 Obr. tlouělce vrstvy ,
vsnikne každou sekundu ionisací nárazem dnx nových sekundárních elek
tronů. Dejme tomu, této vrstvy vstou
pí celkem primárních sekundárních elektronů, tj.uvažovaného plynu tlouôtky jež rovnoběžná elektródami jejíž
vzdálenost katody (obr. Jejich počet dán vztahem
c/n, x
Jestliže vydělíme tento vztah integrujeme, dostaneme
In (3,56)
Integrační konstantu stanovíme podmínky, když vrstvu posuneme na
povrch katody, tj. x
r>i
2 této rovnice pak pro počet elektronů, jež vstoupl' vrstvy, máme
n x
íe anodu, tj. cclkem
si>L
Obr. 3,6). vzdálenosti dospěje celkem
200
(3,57)
. dráze mezi tj. 3,6
fjf (3,55)
elektronů. pro =0, kde zřejmě odtud pak plyne
C Rovnici (3,56) lze pak napsat tvaru
ln -íi
