Stručné základy elektrotechniky vykonaly dvěma vydáním i kus dobré průkopnické práce. Vznikly z mé potřeby ku přednáškám na vysoké škole stavebního inženýrství při vysokém učení technickém v Praze a na vysoké škole báňské v Příbrami. Že kniha byla oblíbená i na vyšších školách průmyslových, ba jako spis pro rekapitulaci před zkouškami z obecné elektrotechniky na elektrotechn. fakultě pražské, mi bylo mnohokráte prokazováno.
Autor: Václav Pošík
Strana 17 z 500
Vámi hledaný text obsahuje tato stránku dokumentu který není autorem určen k veřejnému šíření.
Poněvadž síla el. pole psáti
(2a)
t.4) Lze tudíž pro intensitu el. 30. pole (t.
6) Čti „kulem:", ale sto kulónbů.
z napětí) vzdálenosti obou ekvipotencidlních ploch.potenciálů); zde pak
zhuštění ploch udává zesílení, zředění naopak zeslabení el.
Práce při pohybu jednotkového množství elektrického
v místě intensity el. Zavedeme-li >\
do obou posledních rovnic praktické jednotky: pro napětí
v (viz str.
. síla, působící
množstvím jednotkové množství) vzdálenosti dána
vztahem
(2)
Srovnáním rovnicí (1) vidíme, Tedy před
stavuje opravdu sílu. pole rovna podílu rozdílu potenciálu, (resp.plochami bylo stejné napětí (týž rozdíl. pole. pole přímo úměrná působí
címu el. Springer Berlíně, 1928, str. intensita el. množství (viz
str. 20—54. 29. množství nepřímo úměrná velikosti ekvipoten
ciální plochy, jest ita el.), pro el.
4) Viz Milan idm ar: Vorlesungen uber die wissenschaftlichen Grund-
lagen der Elektrotechnik, nakl. pole dráze dána součinem síly
pole vzdálenosti dr; při tom hodnota potenciálu změní
o dV.), pro vzdálenost cm, dostáváme konstantu rov
nice (2) hodnotou
ve které tric činitel, kterým se
přihlíží povaze isolačního prostředí (dielektrika).
Nejjednodušším případem elektrického pole pole bod
vého je; silokřivky mají směr radiálních paprsků,
ekvipotenciální plochy jsou soustředné plochy kulové,
při čemž hustota silokřivek nepřímo úměrná velikostem
těchto ploch
