Stručné základy elektrotechniky vykonaly dvěma vydáním i kus dobré průkopnické práce. Vznikly z mé potřeby ku přednáškám na vysoké škole stavebního inženýrství při vysokém učení technickém v Praze a na vysoké škole báňské v Příbrami. Že kniha byla oblíbená i na vyšších školách průmyslových, ba jako spis pro rekapitulaci před zkouškami z obecné elektrotechniky na elektrotechn. fakultě pražské, mi bylo mnohokráte prokazováno.
Autor: Václav Pošík
Strana 17 z 500
Vámi hledaný text obsahuje tato stránku dokumentu který není autorem určen k veřejnému šíření.
pole (t. intensita el.
z napětí) vzdálenosti obou ekvipotencidlních ploch. Springer Berlíně, 1928, str.), pro vzdálenost cm, dostáváme konstantu rov
nice (2) hodnotou
ve které tric činitel, kterým se
přihlíží povaze isolačního prostředí (dielektrika).
6) Čti „kulem:", ale sto kulónbů.plochami bylo stejné napětí (týž rozdíl. množství nepřímo úměrná velikosti ekvipoten
ciální plochy, jest ita el. 20—54. síla, působící
množstvím jednotkové množství) vzdálenosti dána
vztahem
(2)
Srovnáním rovnicí (1) vidíme, Tedy před
stavuje opravdu sílu. množství (viz
str.
. 30.potenciálů); zde pak
zhuštění ploch udává zesílení, zředění naopak zeslabení el. pole psáti
(2a)
t. 29.
Práce při pohybu jednotkového množství elektrického
v místě intensity el. pole dráze dána součinem síly
pole vzdálenosti dr; při tom hodnota potenciálu změní
o dV. pole přímo úměrná působí
címu el. pole. Poněvadž síla el.
4) Viz Milan idm ar: Vorlesungen uber die wissenschaftlichen Grund-
lagen der Elektrotechnik, nakl.), pro el. Zavedeme-li >\
do obou posledních rovnic praktické jednotky: pro napětí
v (viz str.4) Lze tudíž pro intensitu el.
Nejjednodušším případem elektrického pole pole bod
vého je; silokřivky mají směr radiálních paprsků,
ekvipotenciální plochy jsou soustředné plochy kulové,
při čemž hustota silokřivek nepřímo úměrná velikostem
těchto ploch. pole rovna podílu rozdílu potenciálu, (resp
