Operační zesilovače v automatizační technice

| Kategorie: Kniha  | Tento dokument chci!

Kniha obsahuje základní informace o operačních zesilovačích. Seznamuje čtenáře s vlastnostmi a s hlavními druhy operačních zesilovačů, s technikou jejich měření a zapojení ve zpětnovazebních operačních sítích i s jejich použitím ve vyhodnocovacích, měřicích a regulačních obvodech v automatizační technice. Kniha je určena širokému okruhu čtenářů se středním vzděláním, kteří se zabývají návrhem, měřením a použitím obvodů, přístrojů a zařízení s operačními zesilovači v automatizační, měřicí a výpočetní technice.

Vydal: Státní nakladatelství technické literatury Autor: Karel Kabeš

Strana 34 z 261

Vámi hledaný text obsahuje tato stránku dokumentu který není autorem určen k veřejnému šíření.

Jak získat tento dokument?






Poznámky redaktora
Křemíková destička na závěr výrobního procesu rozřeže vlastní zesilovací čipy, které se vloží vhodného pouzdra. jjlA709, txA741] vyráběly difúzni technologií křemíkové destičce vhodnou kombinací bipolárních vertikálních tranzistorů NPN několika tranzistorů PNP. Vytvoření integrovaného obvodu monolitickou technologií jediné křemíkové destičce zaručuje nejen nízké výrobní náklady malé rozměry, ale dává dobré předpoklady pro dobrou tepelnou vazbu uvnitř obvodu (všechny součásti mají shodný teplotní režim), pro zajištění úzkých tole­ rancí polovodičových součástek pro velkou provozní spolehli­ vost. Monolitická integrovaná technologie umožnila hromadnou výrobu operačních zesilovačů. LM108). Asi roce 1970 byla zvládnuta monolitická techno­ logie výroby bipolárních tranzistorů tenkou bází pro vstupní stupeň zesilovače. tranzistory superbeta vynikají velmi velkým činitelem zesílení /S(až 000) zaručují výborné para­ metry bipolárního operačního zesilovače (např. Poměr nákladů zhotovení tranzistoru, rezistoru a kondenzátoru monolitickou integrovanou technologií asi 1 Proto při návrhu monolitického operačního zesilo­ vače raději volí zapojení větším počtem tranzistorů počet rezistoru kondenzátom minimalizuje. Kvalita monolitických operačních zesilovačů polovině sedmdesátých let výrazně zlepšila použitím iontové implantace pro výrobu mimořádně přesně dotovaných polovodičových struktur. jednotlivých difúzních procesech . První monolitické operační zesilovače [např. Navíc jsou velké, proto používají jen pro nejnáročnější aplikace. Příkladem tohoto řešení např. Spočívá zhotovení všech aktiv­ ních pasívních součástek pro několik set zesilovačů jediné křemíkové destičce kombinací litografických, difúzních, napařo­ vacích dalších náročných operací. Zpočátku používaly laterální tranzistory PNP, které lze vyrobit současně difúzí báze tranzis­ toru NPN. operační zesilovač AS131 [124], Technologie diskrétní montáže vyžaduje velký podíl ruční práce, proto jsou diskrétní operační zesilovače drahé. Protože mají nízkou tranzitní frekvenci, byly později nahrazeny vertikálními tranzistory PNP lepšími frekvenčními vlastnostmi. Technologie výroby monolitických operačních zesilovačů se postupně zdokonalovala. Difúzni způsob jejich výroby vyžaduje velmi nákladnou kontrolu hloubky a hustoty dotování. Tyto tzv. Obvodové řešení zesilovače však musí být pro monolitickou technologii přizpůsobeno, protože křemíková destička integrova­ ného obvodu lépe využita tranzistory než rezistory konden­ zátory. Tím vznikl kompaktní zesilo­ vací modul, obvykle opatřený vývody pro přímé pájení větších desek plošnými spoji.řičí, silikonovým kaučukem apod. [30], [58], [59], [125]